光启技术是一种利用光学原理和算法来发现隐身涂层的技术。

隐身涂层是一种能够远离红外线、紫外线等电磁波，从而使目标在光学观测中难以被探测到的材料。光启技术通过红外光谱成像、紫外光谱成像等手段，将科技设备、光谱仪等与计算机联结，结合光学算法和监测系统，进行隐身涂层的探测与分析。

光启技术首先利用红外光谱成像仪器对目标进行扫描，获取目标的红外图像。然后，通过光学算法对红外图像进行处理，对目标的红外反射特性进行分析和加工。最后，利用光谱仪将目标的反射光谱进行测定和分析。

在这个过程中，光启技术可以通过对比目标表面红外反射和背景反射的差异，从而发现目标是否具有隐身涂层。这种技术可以帮助军事、安全等领域判断敌方目标是否具有隐身能力，提高侦查、监测和防御能力。

需要注意的是，隐身涂层材料的研发也在不断发展，可能会不断更新隐身涂层的特性，因此光启技术也需要不断创新和改进。